دراسة تأثير كل من منحني الاستقطاب وسمك طبقة SiO2 المنماة بتقنية الأكسدة الانودية على تجانس وخشونة سطح SiO2

Abstract

تضمن هذا العمل إنماء غشاء من SiO2 بسماك مختلفة على أرضية سليكونية متعددة التبلور نوع p وذلك باستخدام منظومة الأكسدة الانودية ذات الثلاثة أقطاب وباستخدام محلول (H2O25% / Ethanol75% بوجود KNO3 0.1N، وتم استخدام جهاز Ellipsometer لقياس سمك SiO2. لوحظ ان سمك SiO2 يزداد مع زيادة الفولتية المسلطة على الخلية وهنالك تشابها بين شكل منحني الاستقطاب وشكل العلاقة بين سمك الاوكسيد وجهد إنماء الاوكسيد. في هذا البحث تم قياس خشونة سطح SiO2 باستخدام المجهر AFM. وجد ان معدل خشونة السطح تزداد بزيادة السمك SiO2.